特許
J-GLOBAL ID：200903018238127604

カラー有機EL素子の製造方法および該製造方法に用いられる現像装置

発明者：
内海 誠

内海 誠 について


出願人/特許権者：
富士電機ホールディングス株式会社

富士電機ホールディングス株式会社 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-256389
公開番号（公開出願番号）：特開2008-077991
出願日： 2006年09月21日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】本発明は、有機ELディスプレイの表示欠陥の原因となる、現像残渣の発生を抑制する方法を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の有機EL素子の製造方法は、透明支持基板上に色変換フィルター層、平坦化層およびパッシベーション層、透明電極、有機EL層および反射電極を形成する各工程を含み、平坦化層が1)平坦化層用のフォトレジスト材料を塗布し、露光するステップ、2)現像液を供給しフォトレジスト材料を溶解するステップ、3)2)に連続して、現像液および純水の混合液、または純水を供給し現像液を除去するステップ、4)3)に連続して、純水を供給しリンスを行うステップ、5)4)に連続して、超音波を印加した純水を供給しリンスを行うステップおよび6)乾燥ステップにより形成される。本発明では、絶縁層および/または反射電極分離隔壁を平坦化層と同様に形成できる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
(A)透明支持基板上に色変換フィルター層を形成する工程と、 (B)前記色変換フィルター層上に平坦化層およびパッシベーション層を順次形成する工程であって、前記平坦化層を形成する工程が下記1)〜6)のステップを含む工程、 1)色変換フィルター層を形成した透明支持基板上に平坦化層を形成するフォトレジスト材料を塗布し、露光するステップ、 2)前記透明支持基板上に現像液を供給し、前記露光した平坦化層を形成するフォトレジスト材料を現像するステップ、 3)前記2)のステップに連続して、現像液および純水の混合液を前記透明支持基板上に供給し、現像液を除去するステップ、 4)前記3)のステップに連続して、純水を前記透明支持基板上に供給し、リンスを行うステップ、 5)前記4)のステップに連続して、超音波を印加した純水を前記透明支持基板上に供給し、リンスを行うステップ、および 6)現像後の乾燥を行うステップ、 C)前記パッシベーション層上にストライプ状の透明電極を形成する工程と、 D)前記透明電極を形成した基板上に有機EL層を形成する工程と、 E)有機EL層上に反射電極を形成する工程 を含むことを特徴とするカラー有機EL素子の製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/22
FI (5件)：
H05B33/10 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/12 E ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z
Fターム (11件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC33 ,  3K107DD90 ,  3K107DD97 ,  3K107EE02 ,  3K107EE24 ,  3K107EE46 ,  3K107GG12 ,  3K107GG22 ,  3K107GG28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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