特許
J-GLOBAL ID：200903018275814450

高密度プラズマ源内での電気的に制御可能なプラズマ均一性

発明者：
ジョンソン、ウェイン・エル

ジョンソン、ウェイン・エル について

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ウインドホーン、トーマス・エイチ

ウインドホーン、トーマス・エイチ について

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ストラング、エリック・ジェイ

ストラング、エリック・ジェイ について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-563571
公開番号（公開出願番号）：特表2003-525519
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：
【要約】【課題】【解決手段】装置は、チャンバと、このチャンバが、プラズマを形成するようにRF磁界と相互作用するイオン化ガスを含んでいるときに、フィールド発生電流をRF磁界に変換するためのコイルシステムとを有している。プラズマは、チャンバに囲まれ、長手方向の中心軸を有する円筒領域に収容される。この円筒領域は、前記中心軸と同心的で、中心軸から夫々異なる距離の所に配置された複数の環状ゾーン領域により形成されていると見なされる。前記コイルシステムは、各々が夫々の環状ゾーン領域に特に影響するRF磁界を発生するようなディメンションを有し、かつ位置された複数の独立のコイルにより構成されている。
請求項（抜粋）：
長手方向の中心軸、並びにこの軸に沿って互いに離間した2つの軸端を有する円筒領域を備え、ガスを含むプラズマチャンバと、 フイールド発生電流を前記チャンバ内でRF磁界に変換して、前記円筒領域内にプラズマを維持させるために、ガスと相互作用を果たし、前記中心軸と同心的で、この中心軸から夫々異なる距離の所に配置された複数の環状ゾーン領域を有するコイルシステムとを具備し、 このテムは、各々が前記円筒領域の夫々の環状ゾーン領域に特に影響するRF磁界を発生するようなディメンションを有し、かつ位置された複数の独立のコイルを有し、また 前記チャンバは、前記独立のコイルの各々の端部を通過するように延びた連続表面を有するように成形されている、プラズマを発生させるための装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/3065 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/48
FI (4件)：
H05H 1/46 L ,  C23C 14/34 U ,  C23C 16/48 ,  H01L 21/302 101 C
Fターム (16件)：
4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  4K029EA06 ,  4K030FA04 ,  4K030JA15 ,  4K030KA30 ,  4K030KA34 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB11 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004CB09
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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