研磨用シート

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-153536
公開番号（公開出願番号）：特開2000-343411
出願日： 1999年06月01日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】【課題】本発明は、金属不純物の存在が嫌われる半導体材料の研磨等に使用する化学的・機械的研磨(CMP)用シートに関するものである。【解決手段】特定の形態的特性を有する多数の均一な微細孔を表面及び内部に有し、金属不純物の濃度が100ppm以下である高分子量ポリエチレンフィルムを研磨層に持つ研磨用シート。

請求項（抜粋）：

多数の均一な微細孔を表面及び内部に有し、金属不純物の濃度が100ppm以下である高分子量ポリエチレン系樹脂多孔質フィルムを研磨層に持ち、当該多孔質フィルムを形成する高分子量ポリエチレン系樹脂は、分子量4×105以上のポリエチレンを少なくとも50重量%含む樹脂からなり、当該多孔質フィルムは細孔のサイズが基本的に0.01μm〜10μmの範囲内にあり、空隙率が50%〜90%であり、引張り強度が少なくとも一方向に対して10MPa以上である、超高分子量ポリエチレン多孔質フィルムである、研磨用シート。

IPC (2件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 C , H01L 21/304 622 F

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058AC04 , 3C058CB01 , 3C058DA02 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (15件)

研磨パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-164195 出願人：日東電工株式会社
特開昭63-251159
非水電解質リチウム二次電池
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-126794 出願人：三菱電線工業株式会社

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