欠陥観察方法及び欠陥観察装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉村興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-155215
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350731
出願日： 2001年05月24日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 100nm程度の微細な欠陥を高倍率観察モードにおいて簡単な作業で観察できる欠陥観察方法を提供する。【解決手段】欠陥検査すべき基板の表面を光ビームで走査し、欠陥及びそのアドレス座標を検出する。観察された欠陥及びそのアドレス座標を用い、欠陥を光学的に観察する。この光学観察で高倍率モードでの観察が必要であると判断した場合、欠陥の位置を指示するマークを、基板の欠陥の付近に機械的手段を用いて凹部として形成する。観察において欠陥の位置を示すアラインメントマークとしての機能を果たす。次低倍率観察モード及び高倍率観察モードを有する顕微鏡装置を用い、低倍率観察モードで前記欠陥を指示するマークを検出し、さらに高倍率観察モードにおいて、検出したマークを用いて観察すべき欠陥を視野内に位置させ、微細欠陥を高倍率観察モードで観察する工程とを具える。

請求項（抜粋）：

基板の表面領域に存在する欠陥を観察するに際し、検査すべき基板の表面を光ビームにより走査して欠陥を検出する第1の観察工程と、検出された欠陥の位置を指示するために欠陥の近傍にマーキングを行うマーキング工程と、当該マーキングを目印として、検出された欠陥を第1の観察工程の倍率よりも高い倍率で観察する第2の観察工程とを具えることを特徴とする欠陥観察方法。

IPC (6件)：

G02B 21/00 , G01N 21/956 , G01N 23/04 , G01N 23/225 , G01N 23/227 , G03F 1/08

FI (6件)：

G02B 21/00 , G01N 21/956 A , G01N 23/04 , G01N 23/225 , G01N 23/227 , G03F 1/08 S

Fターム (27件)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA09 , 2G001BA11 , 2G001CA03 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001RA01 , 2G001RA20 , 2G051AA51 , 2G051AB07 , 2G051AC02 , 2G051BA10 , 2G051BC05 , 2G051CA03 , 2G051CB05 , 2G051DA15 , 2H052AE11 , 2H052AF02 , 2H095BA01 , 2H095BD04 , 2H095BD11 , 2H095BD21

引用特許：

審査官引用 (10件)

ウェハ検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-163205 出願人：株式会社日立製作所
レーザ加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-045752 出願人：オリンパス光学工業株式会社
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-199031 出願人：レーザーテック株式会社

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