特許
J-GLOBAL ID：200903018880477406
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-180980
公開番号（公開出願番号）：特開2007-003619
出願日： 2005年06月21日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物に於いて、PEB温度依存性、露光ラチチュード、パターンプロファイルが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いる化合物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法、特定構造の化合物及び活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される化合物を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
2H025AA01
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA17
