多孔質膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、層間絶縁膜及び半導体装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：奥山尚一 , 有原幸一 , 松島鉄男 , 河村英文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-329126
公開番号（公開出願番号）：特開2004-161876
出願日： 2002年11月13日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】簡単な工程かつ低コストで、実用的な力学的強度を有する多孔質膜を形成できる膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、及び多孔質膜を内蔵する低コスト、高性能、かつ、信頼性の高い半導体装置を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で表されるシラン化合物の一以上を加水分解縮合して得られる重合体、好ましくは、一般式(1)に表されるシラン化合物の一以上と、下記一般式(2)に表されるシラン化合物の一以上とを共加水分解縮合して得られる重合体を含む多孔質膜形成用組成物を用いる。また、この膜形成用組成物の塗布工程と多孔質形成工程とを含む多孔質膜の製造方法を用いる。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)

IPC (3件)：

C08G77/38 , H01L21/316 , H01L21/768

FI (4件)：

C08G77/38 , H01L21/316 G , H01L21/90 S , H01L21/90 Q

Fターム (54件)：

4J002CP03W , 4J002CP03X , 4J002CP06Y , 4J002EQ016 , 4J002GQ01 , 4J002GQ05 , 4J246AA03 , 4J246AA19 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA12U , 4J246CA12X , 4J246CA129 , 4J246CA13U , 4J246CA13X , 4J246CA139 , 4J246CA26X , 4J246FA071 , 4J246FA081 , 4J246FA131 , 4J246FA371 , 4J246FB301 , 4J246GB04 , 4J246GC52 , 4J246GC53 , 4J246HA63 , 5F033GG01 , 5F033GG02 , 5F033HH11 , 5F033JJ11 , 5F033KK01 , 5F033KK11 , 5F033QQ48 , 5F033RR23 , 5F033RR29 , 5F033SS22 , 5F033WW00 , 5F033WW03 , 5F033WW04 , 5F033XX00 , 5F033XX01 , 5F033XX24 , 5F033XX27 , 5F058BA06 , 5F058BA07 , 5F058BA20 , 5F058BC05 , 5F058BC20 , 5F058BF46 , 5F058BH01 , 5F058BJ02

引用特許：

審査官引用 (13件)

コーティング用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-296953 出願人：東レ株式会社
有機ケイ素化合物からなる多孔質膜及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-298932 出願人：三菱マテリアル株式会社, 大日本塗料株式会社
良好な溶解性と安定性を有するシリコーン樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-325050 出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション

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