特許
J-GLOBAL ID：200903096444962545
最適化した偏光照明
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 山本 貴和
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-327534
公開番号（公開出願番号）：特開2005-183938
出願日： 2004年11月11日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】フォトリソグラフィで小さいサイズの形態を結像するために、高開口数(NA)のシステムで、基板の表面に形成すべきパターンの照明の偏光を最適化する方法を提供すること。【解決手段】この方法は、少なくとも二つの偏光状態について照明器上の少なくとも一つの点に対して照明強度を決め21、これら少なくとも二つの偏光状態についてこの照明器上のこの少なくとも一つの点に対して画像対数勾配(ILS)を決め22、これらの値に基づいて、このILSがこの照明器上のこの少なくとも一つの点に対して少なくともゼロに近い、最大画像対数勾配(ILS)を決め24、およびこの照明器上のこの少なくとも一つの点に対してこの最大ILSに対応する最適偏光状態を選ぶ25。従って、偏光した照明をこの照明器上のこの少なくとも一つの点に対して最適化する。このプロセスをこの照明器上の複数の点の各々に対して反復してもよい。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板の表面に形成すべきパターンの照明の偏光を最適化する方法であって、
(a)少なくとも二つの偏光状態について照明器上の少なくとも一つの点に対して照明強度を決める工程、
(b)前記少なくとも二つの偏光状態について前記照明器上の前記少なくとも一つの点に対して画像対数勾配(ILS)を決める工程、
(c)前記ILSが前記照明器上の前記少なくとも一つの点に対して少なくともゼロに近い、最大画像対数勾配(ILS)を決める工程、および
(d)前記照明器上の前記少なくとも一つの点に対して前記最大ILSに対応する最適偏光状態を選ぶ工程、を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516C
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CA08
, 5F046CB01
, 5F046CB23
, 5F046CB24
, 5F046DA01
, 5F046DA11
, 5F046DD06
, 5F046GA03
, 5F046GA14
