配線、薄膜トランジスタ、発光装置、並びに液晶表示装置の作製方法、及びそれらを形成する液滴吐出装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-344202
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109390
出願日： 2003年10月02日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】半導体装置、特に半導体装置が有する画素部の高精細化、高開口率化が進むにつれて、より幅の小さい配線を形成することが要求されている。しかしインクジェット法を用いて配線を形成する場合、配線形成表面でドットが広がってしまい、配線の幅を小さくすることが難しかった。【解決手段】本発明は、配線形成表面にTiO2を代表とする光触媒物質を形成し、該光触媒物質の光触媒活性を利用して配線を形成することを特徴とする。例えばインクジェット法により、光触媒物質上に、溶媒に混入された導電体を吐出する。本発明により、インクジェット法により形成されるドットの径より狭い、つまり幅の小さい配線を形成することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光触媒機能を有する物質を形成し、塗布法により、前記光触媒機能を有する物質上に、導電体が混入された溶媒を吐出することを特徴とする配線の作製方法。

IPC (8件)：

H01L21/288 , B01J35/02 , G02F1/1368 , H01L21/027 , H01L21/28 , H01L21/3205 , H01L21/336 , H01L29/786

FI (10件)：

H01L21/288 Z , B01J35/02 J , G02F1/1368 , H01L21/28 A , H01L21/28 301S , H01L29/78 617J , H01L29/78 616K , H01L29/78 627B , H01L21/88 B , H01L21/30 502D

Fターム (149件)：

2H092GA11 , 2H092JA24 , 2H092JA25 , 2H092JA34 , 2H092JA37 , 2H092JA41 , 2H092JB21 , 2H092KA12 , 2H092KA13 , 2H092KB15 , 2H092MA03 , 2H092MA05 , 2H092MA07 , 2H092MA08 , 2H092MA10 , 2H092MA17 , 2H092MA24 , 2H092MA30 , 2H092MA35 , 2H092NA25 , 2H092PA02 , 2H092PA08 , 4G069AA02 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069CD10 , 4G069ED02 , 4G069FA03 , 4G069FB23 , 4M104AA09 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB05 , 4M104BB06 , 4M104BB07 , 4M104BB08 , 4M104BB09 , 4M104BB14 , 4M104BB17 , 4M104BB18 , 4M104BB22 , 4M104BB24 , 4M104BB25 , 4M104BB26 , 4M104BB28 , 4M104BB30 , 4M104BB36 , 4M104CC05 , 4M104DD21 , 4M104DD22 , 4M104DD47 , 4M104DD61 , 4M104DD78 , 4M104DD80 , 4M104DD84 , 4M104EE02 , 4M104EE03 , 4M104EE16 , 4M104GG09 , 4M104GG10 , 4M104GG14 , 4M104HH14 , 5F033GG04 , 5F033HH07 , 5F033HH11 , 5F033HH13 , 5F033HH14 , 5F033HH18 , 5F033HH19 , 5F033HH21 , 5F033HH33 , 5F033HH38 , 5F033KK04 , 5F033KK25 , 5F033KK26 , 5F033KK27 , 5F033KK28 , 5F033KK30 , 5F033PP15 , 5F033PP26 , 5F033QQ09 , 5F033QQ26 , 5F033QQ31 , 5F033QQ37 , 5F033QQ48 , 5F033QQ54 , 5F033QQ70 , 5F033QQ73 , 5F033RR03 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR08 , 5F033RR21 , 5F033RR22 , 5F033RR25 , 5F033RR27 , 5F033SS15 , 5F033VV06 , 5F033VV15 , 5F046AA28 , 5F110AA16 , 5F110AA28 , 5F110BB04 , 5F110CC02 , 5F110CC05 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD03 , 5F110DD12 , 5F110DD13 , 5F110DD14 , 5F110DD15 , 5F110DD17 , 5F110EE02 , 5F110EE42 , 5F110FF01 , 5F110FF27 , 5F110GG01 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG14 , 5F110GG15 , 5F110GG25 , 5F110GG45 , 5F110HJ01 , 5F110HK02 , 5F110HK05 , 5F110HK09 , 5F110HK21 , 5F110HK32 , 5F110HK40 , 5F110HL22 , 5F110NN03 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN35 , 5F110NN72 , 5F110PP03 , 5F110PP10 , 5F110PP34 , 5F110PP35 , 5F110QQ01 , 5F110QQ09 , 5F110QQ11 , 5F110QQ19 , 5F110QQ23

引用特許：

出願人引用 (1件)

光触媒反応による金属配線の形成方法及び基材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-063028 出願人：富士通株式会社

審査官引用 (9件)

ミクロファブリケーション用基板、その製造方法および像状薄膜形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-240761 出願人：富士写真フイルム株式会社
電極配線基板、その製造方法、及び液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-336250 出願人：株式会社東芝
アクティブマトリクス型液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-004378 出願人：株式会社日立製作所

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