複雑な発光体形状を模擬するための強度平衡露光

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-203871
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032960
出願日： 2005年07月13日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の照明状態を最適化するための方法を提供すること。【解決手段】マスク・パターンを照射するように形成された発光体を備えたリソグラフィ装置を使用した基板へのマスク・パターンの光転送を最適化するための方法であって、発光体のひとみ平面に対する複数の照明配列を個々に決定するステップにして、複数の照明配列の各々がマスク・パターンを照射する際の個々のリソグラフィ性能応答パラメータを改善するために決定されているステップと、複数の照明配列のうちの第1の照明配列の強度を複数の照明配列のうちの第2の照明配列の強度に対して調整するステップにして、第1及び第2の照明配列を使用してマスク・パターンが照射されるステップが含まれている。マスク・パターンは、第1及び第2の照明配列の各々に対して少なくとも1回照射され、或いは少なくとも第1の照明配列及び第2の照明配列を使用して同時に照射されてよい。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

マスク・パターンを照射するように形成された発光体を備えたリソグラフィ装置を使用した基板へのマスク・パターンの光転送を最適化するための方法であって、該方法が、前記発光体のひとみ平面に対する複数の照明配列を決定するステップにして、複数の照明配列の各々が前記マスク・パターンを照射する際の個々のリソグラフィ性能応答パラメータを改善するために決定されるステップと、前記複数の照明配列のうちの第1の照明配列の強度を前記複数の照明配列のうちの第2の照明配列の強度に対して調整するステップにして、前記第1及び第2の照明配列を使用して前記マスク・パターンが照射されるステップとを含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521 , H01L21/30 514Z

Fターム (4件)：

5F046CB05 , 5F046CB10 , 5F046CB17 , 5F046CB23

引用特許：

審査官引用 (9件)

露光装置および露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-162732 出願人：三菱電機株式会社
特定のマスク・パターンのための照明の最適化
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-097334 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
露光方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-207237 出願人：ソニー株式会社

全件表示

前のページに戻る