特許
J-GLOBAL ID：200903020325104143

塗付膜形成方法およびその装置

発明者：
吉野 宏

吉野 宏 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-148129
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343704
出願日： 2001年05月17日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：
【要約】【課題】 塗付膜を形成する際に塗付膜の周辺エッジに造形される盛上り部分を単純に除去することができる。【解決手段】 回転するウェーハ支持台2に保持されたウェーハ1の表面上に形成された有機系塗付膜のウェーハエッジ部分を、この塗付膜を溶解する溶剤5aを、エッジリンス用ノズル5から噴射することにより溶解して塗付膜42を形成すると同時に、塗付膜42を残す範囲に、塗付膜42を溶解しない溶剤6aを塗付膜保存用ノズル6から供給している。塗付膜保存用ノズル6は、ウェーハ1の回転軸側にエッジリンス用ノズル5に隣接している。従って、溶剤5aで溶解された塗付膜材料は除去されるが、溶剤6aにより覆われる塗付膜42の部分は溶解せず、その表面に盛上りは造形されない。
請求項（抜粋）：
ウェーハの表面上に有機系塗付膜材料を均一に広げ、乾燥して第1の塗付膜を形成した後、溶剤により前記第1の塗付膜のウェーハ周辺部を溶解して除去し、所定形状の第2の塗付膜を形成する塗付膜形成方法において、前記第1の塗付膜を溶解する第1の溶剤を前記第1の塗付膜の除去部分に供給する一方で、前記第2の塗付膜の周辺部分に前記第1の塗付膜を残す第2の溶剤を更に供給して前記第2の塗付膜の周辺エッジを形成することを特徴とする塗付膜形成方法。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/10 ,  G03F 7/16 502
FI (8件)：
B05C 5/00 101 ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/10 N ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 577 ,  H01L 21/30 574
Fターム (38件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA05 ,  2H025EA10 ,  4D075AC64 ,  4D075AC73 ,  4D075AC79 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB24Y ,  4D075BB63Z ,  4D075BB69Z ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4D075EC30 ,  4F041AA02 ,  4F041AA06 ,  4F041AB01 ,  4F041BA05 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA38 ,  4F041BA59 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042CC10 ,  4F042CC15 ,  4F042DC00 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  4F042EB25 ,  5F046JA15 ,  5F046PA07
引用特許：
審査官引用 (9件)
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