パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-347675
公開番号（公開出願番号）：特開2006-154559
出願日： 2004年11月30日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。【解決手段】支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が、5.0%以下であり、かつ、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び熱架橋剤を少なくとも含むことを特徴とするパターン形成材料である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が、5.0%以下であり、かつ、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び熱架橋剤を少なくとも含むことを特徴とするパターン形成材料。

IPC (6件)：

G03F 7/09 , G03F 7/004 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , G03F 7/20 , H05K 3/28

FI (7件)：

G03F7/09 501 , G03F7/004 501 , G03F7/028 , G03F7/033 , G03F7/20 501 , H05K3/28 D , H05K3/28 F

Fターム (40件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB15 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025CA01 , 2H025CA07 , 2H025CA14 , 2H025CA18 , 2H025CA28 , 2H025CA30 , 2H025CA35 , 2H025CA48 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB30 , 2H025CB43 , 2H025CB60 , 2H025CC08 , 2H025CC17 , 2H025DA19 , 2H025EA08 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H097AA03 , 2H097FA02 , 2H097LA09 , 5E314AA24 , 5E314AA27 , 5E314BB11 , 5E314CC15 , 5E314FF01 , 5E314GG04 , 5E314GG17 , 5E314GG24

引用特許：

出願人引用 (5件)

特許第3452597号公報
特許第3100040号公報
感光性エレメント、感光性エレメントロール、これを用いたレジストパターンの製造法、レジストパターン、レジストパターン積層基板、配線パターンの製造法及び配線パターン
公報種別：再公表公報出願番号：JP2000004028 出願人：日立化成工業株式会社

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審査官引用 (8件)

感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-261717 出願人：三井東圧化学株式会社
特表平7-505234
ソルダ-マスクを形成するための1パ-ト型光画像形成性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-153464 出願人：モートンインターナショナル,インコーポレイティド

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