特許
J-GLOBAL ID：200903022028005120

フォトニック結晶導波路及びその製造方法

発明者：
井本 克之

井本 克之 について


出願人/特許権者：
日立電線株式会社

日立電線株式会社 について


代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-227980
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043273
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 小型で低損失のフォトニック結晶導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 フォトブリーチング用ポリマ層の光路としない部分に多数の紫外線レーザビームスポットを所定の間隔S1、S2で直接照射して屈折率低下領域4をマトリクス状に形成することにより、紫外線レーザビームスポットの照射されない領域5の屈折率が相対的に高くなり導波路を形成するので、従来のようなフォトリソグラフィやエッチングプロセスを用いないで、小型で低損失の導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
基板上に低屈折率層が設けられ、その低屈折率層の表面若しくは内部に高屈折率のフォトブリーチング用のポリマ層が設けられており、該ポリマ層内に該ポリマ層の吸収波長近傍の波長の紫外線レーザビームが上記ポリマ層の面方向に所定の間隔で照射されて屈折率の低下した屈折率低下領域がマトリックス状に形成されたフォトニック結晶導波路であって、上記屈折率低下領域の中の一部が欠落すると共に、その欠落した領域が形成する欠落パターンが上記ポリマ層の面方向に直線、曲線パターン、あるいはこれらの組み合わせたものからなり、光信号は上記欠落パターンに沿って上記ポリマ層内を伝搬することを特徴とするフォトニック結晶導波路。
IPC (2件)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (3件)：
G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Fターム (8件)：
2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA11 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA01 ,  2H047TA36
引用特許：
審査官引用 (9件)
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