特許
J-GLOBAL ID：200903022622486805

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
中尾 元

中尾 元 について

, 
百田 淳

百田 淳 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-089084
公開番号（公開出願番号）：特開2004-310082
出願日： 2004年03月25日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】 微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスが小さく、疎又は密パターン、ライン又はトレンチパターンなど種々のパターンにおいてもデフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)少なくとも一つのアクリル酸エステル誘導体の繰り返し単位を含有し、ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び、水酸基を有するアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、ガラス転移温度が70〜155°Cである酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一つと環状ケトンを含有する有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)少なくとも一つのアクリル酸エステル誘導体の繰り返し単位を含有し、一般式(IV)で表される繰り返し単位と一般式(V-1)〜(V-4)で表される基を有する繰り返し単位とから選ばれる少なくとも一つ、及び、一般式(AII)で表される繰り返し単位を含有する、ガラス転移温度が70〜155°Cである酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一つと環状ケトンを含有する混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB60 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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