特許
J-GLOBAL ID：200903073963670616

ポジ型レジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

, 
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048880
公開番号（公開出願番号）：特開2002-251013
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン露光適性、ホールピッチ依存性、露光マージンが優れ、経時保存による感度変動を防止でき、またPED安定性が優れ、更に樹脂をオキサイドエッチングしたときの膜減り均一性についても優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも2種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(V-1)〜(V-4)のいずれかで表される基を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、且つ(B)酸発生剤が、トリアリールスルフォニウム塩、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物及び芳香環を有さないスルホニウム塩の群から選択される少なくとも2種含有する混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(V-1)〜(V-4)において、R1b〜R5bは、各々独立に水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1b〜R5bの内の2つは、結合して環を形成してもよい。
IPC (8件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/04 ,  C08F 32/08 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (8件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/04 ,  C08F 32/08 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (43件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002BK001 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J100AL08P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA34P ,  4J100BA40P ,  4J100BA58P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA28 ,  4J100DA61 ,  4J100FA02
引用特許：
審査官引用 (9件)
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