特許
J-GLOBAL ID：200903040754715216

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
百田 淳

百田 淳 について

, 
中尾 元

中尾 元 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-086206
公開番号（公開出願番号）：特開2004-310075
出願日： 2004年03月24日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】サーマルフロー時のクラック発生が低減され、耐ドライエッチング性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)全繰り返し単位に対して、アクリル酸エステル誘導体に由来する繰り返し単位が50〜100モル%であり、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位及びモノヒドロキシアダマンタン構造若しくはジヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一種類の溶剤と環状ケトンを含有する混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)全繰り返し単位に対して、アクリル酸エステル誘導体に由来する繰り返し単位が50〜100モル%であり、一般式(IV)で表される繰り返し単位と一般式(V-1)〜(V-4)で表される基を有する繰り返し単位とから選ばれる少なくとも一種類の繰り返し単位及び一般式(AII)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一種類の溶剤と環状ケトンとを含有する混合溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (25件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100BC26Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA61 ,  4J100HA53 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM