特許
J-GLOBAL ID:200903023466980175

研磨パッド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-232084
公開番号(公開出願番号):特開2007-044814
出願日: 2005年08月10日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 加工終点の検出精度の高い研磨パッドを提供することを目的とする。【解決手段】 被研磨物を研磨する研磨層2と、研磨層2を支持する下地層3とを有する研磨パッドである。研磨層2には、厚み方向に光を透過させる第1窓部材4が形成されており、下地層3には、第1窓部材4に対応する位置に、厚み方向に光を透過させる第2窓部材5が形成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被研磨物を研磨する研磨層と、前記研磨層を支持する下地層とを有し、 前記研磨層には、厚み方向に光を透過させる第1窓部材が形成されており、 前記下地層には、前記第1窓部材に対応する位置に、厚み方向に光を透過させる第2窓部材が形成されていることを特徴とする研磨パッド。
IPC (3件):
B24B 37/00 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/304
FI (3件):
B24B37/00 C ,  B24B37/04 K ,  H01L21/304 622F
Fターム (6件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AC02 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058DA12
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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