研磨パッド

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：鈴木崇生 , 梶崎弘一 , 尾崎雄三 , 谷口俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-358595
公開番号（公開出願番号）：特開2006-159386
出願日： 2004年12月10日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】研磨を行っている状態で高精度の光学終点検知を可能とし、長期間使用した場合であっても研磨領域と光透過領域との間からのスラリー漏れを防止することができる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨領域8及び光透過領域9を有する研磨パッド1において、前記研磨領域及び光透過領域の片面に透水防止層10が設けられており、かつ光透過領域と透水防止層とが同一材料により一体形成されていることを特徴とする研磨パッド。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

研磨領域及び光透過領域を有する研磨パッドにおいて、前記研磨領域及び光透過領域の片面に透水防止層が設けられており、かつ光透過領域と透水防止層とが同一材料により一体形成されていることを特徴とする研磨パッド。

IPC (3件)：

B24B 37/00 , B24B 37/04 , H01L 21/304

FI (4件)：

B24B37/00 C , B24B37/04 K , H01L21/304 622F , H01L21/304 622S

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CA01 , 3C058CB01 , 3C058DA12

引用特許：

出願人引用 (14件)

米国特許第5069002号明細書
機械化学的ポリッシング装置用のポリッシングパッドへの透明窓の形成
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-221737 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
窓漏れの少ない透明窓を有するケミカルメカニカルポリシング装置用ポリシングパッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-280082 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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審査官引用 (4件)

一体型研磨パッドおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-312405 出願人：コリア・ポリオル・カンパニー・リミテッド
ポリッシング装置及び研磨パッド並びにその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-062270 出願人：株式会社荏原製作所
研磨パッドおよび半導体ウェハの研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-122542 出願人：JSR株式会社

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