小角散乱測定方法とその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本寿武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-112372
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310947
出願日： 2001年04月11日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】厚さ1nm〜10nmの薄膜材料に対しても有効な小角散乱測定を実現する。【解決手段】試料Sの内部をその表面Saに沿ってX線100aが進行し、且つ試料Sからその表面すれすれにインプレーン散乱X線100bがあらわれるように、試料表面Saに対するX線の入射角αを低角度(例えば、0.5°以下)に調整し、試料表面Saすれすれにあらわれたインプレーン散乱X線100bを検出する。

請求項（抜粋）：

試料の内部をその表面に沿ってX線が進行し、且つ試料からその表面すれすれに散乱X線があらわれるように、試料表面に対するX線の入射角を調整し、前記試料の表面すれすれにあらわれた散乱X線を検出することを特徴とした小角散乱測定方法。

Fターム (16件)：

2G001AA01 , 2G001BA14 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001FA12 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001JA04 , 2G001JA08 , 2G001JA11 , 2G001MA05 , 2G001PA13 , 2G001PA14 , 2G001SA03 , 2G001SA04

引用特許：

審査官引用 (10件)

X線評価装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-211168 出願人：株式会社リコー
X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-148260 出願人：理学電機株式会社
X線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-056752 出願人：理学電機株式会社

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