フォトリソグラフィのための非反射性コーティングおよびそれの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 栗田忠彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-545712
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509913
出願日： 2002年11月12日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

紫外光フォトリソグラフィーのための非反射性コーティング材料は、少なくとも1つの吸光性化合物;および少なくとも1つのポロゲン、少なくとも1つの高沸性溶剤、少なくとも1つのキャッピング剤、少なくとも1つの均展剤、少なくとも1つの触媒、少なくとも1つの交代溶剤、少なくとも1つのpH調整剤および/またはそれらの組合せのような少なくとも1つの材料改質剤を含み、これらは無機ベース材料または無機組成物および/または化合物中に組み込まれる。適切な吸光性化合物は、フォトリソグラフィーに使用され得る365nm、248nm、193nmおよび157nmのような波長付近を吸収するものである。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの無機ベース化合物、少なくとも1つの組込み可能な吸光性化合物、および少なくとも1つの材料改質剤を含んでなる吸光性組成物。

IPC (5件)：

G03F7/11 , C08K5/00 , C08L83/00 , C08L101/00 , H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/11 503 , C08K5/00 , C08L83/00 , C08L101/00 , H01L21/30 574

Fターム (43件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AC04 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 4J002BC03W , 4J002BC03Y , 4J002BC09W , 4J002BD04W , 4J002BG04Y , 4J002BG05Y , 4J002BG06W , 4J002BG10W , 4J002BL00W , 4J002BL01W , 4J002BL02W , 4J002BQ00W , 4J002CB00W , 4J002CC03Y , 4J002CF00W , 4J002CF06W , 4J002CF18W , 4J002CF19W , 4J002CG01W , 4J002CH00W , 4J002CH02W , 4J002CK02W , 4J002CN03W , 4J002CP01X , 4J002CP02X , 4J002CP03W , 4J002CP03X , 4J002CP04X , 4J002EC036 , 4J002EE046 , 4J002EF096 , 4J002EQ016 , 4J002EU036 , 4J002EV306 , 4J002EX036 , 4J002GP03 , 5F046PA09

引用特許：

審査官引用 (7件)

反射防止膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-265408 出願人：東京応化工業株式会社
フォトマスクブランク
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-504442 出願人：イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
フォトリソグラフィ用スピンオンガラス反射防止コーティング
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-503571 出願人：ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド

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