フォトリソグラフィ用のスピンオングラス反射防止コーティング

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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 細川伸哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-545713
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509914
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

紫外線フォトリソグラフィーのための反射防止コーティング材料は、スピンオングラス材料に導入された少なくとも1つの有機光吸収性化合物を含む。好適な吸収性化合物は、フォトリソグラフィーに利用されることができる、365nm、248nm、193nm及び157nmなどの波長付近の波長範囲にわたり強い吸収性を示す。吸収性スピンオングラス材料の製造方法は、スピンオングラス材料の合成の間に、少なくとも1つの有機光吸収性化合物をアルコキシシラン又はハロシラン反応剤と結合させる工程を含む。

請求項（抜粋）：

ケイ素系化合物及び375nm未満の波長の光を吸収する導入可能な有機吸収性化合物を含む吸収性スピンオングラス組成物であって、ケイ素系化合物又は導入可能な有機吸収性化合物の少なくとも1つがアルキル基、アルコキシ基、ケトン基、又はアゾ基を含む組成物。

IPC (8件)：

G03F7/075 , C07F7/18 , C08G77/04 , C09D5/00 , C09D7/12 , C09D183/04 , G02B1/11 , G03F7/11

FI (8件)：

G03F7/075 501 , C07F7/18 K , C08G77/04 , C09D5/00 Z , C09D7/12 , C09D183/04 , G03F7/11 503 , G02B1/10 A

Fターム (63件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025DA34 , 2K009AA02 , 2K009AA12 , 2K009BB02 , 2K009CC21 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009EE00 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ01 , 4H049VQ21 , 4H049VQ28 , 4H049VR21 , 4H049VR43 , 4H049VS01 , 4H049VS12 , 4H049VS21 , 4H049VT48 , 4H049VU21 , 4H049VW08 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038DL041 , 4J038DL171 , 4J038JA03 , 4J038JA06 , 4J038JA25 , 4J038JA40 , 4J038JB16 , 4J038JC32 , 4J038LA06 , 4J038NA19 , 4J038PB08 , 4J038PB09 , 4J038PC03 , 4J246AA02 , 4J246AA03 , 4J246AA10 , 4J246BA120 , 4J246BA130 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA010 , 4J246CA240 , 4J246CA400 , 4J246CA57X , 4J246CA570 , 4J246CA64X , 4J246CA640 , 4J246CA72X , 4J246CA720 , 4J246CB10 , 4J246GC25 , 4J246HA15 , 4J246HA22 , 4J246HA24

引用特許：

審査官引用 (9件)

特許第6268457号
フォトマスクブランク
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-504442 出願人：イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
反射防止膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-265408 出願人：東京応化工業株式会社

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