特許
J-GLOBAL ID:200903025452040040
シール部材及びプラズマ処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 鈴木 康仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-350279
公開番号(公開出願番号):特開2004-186329
出願日: 2002年12月02日
公開日(公表日): 2004年07月02日
要約:
【課題】耐久性に優れたシール部材を提供する。【解決手段】シール部材27は、フッ素系樹脂で形成されたリング状のシール本体28と、このシール本体28の内周部に設けられ、耐プラズマ性を有する材料で形成された保護リング29とを有している。シール本体28は、内周壁部30及び側壁部31a,31bからなる断面略U字状を有しており、これにより外周側に開口した環状凹部32が形成されている。シール本体28の環状凹部32内には、両側壁部31a,31bを拡げるための断面U字状の板バネリング34が配置されている。保護リング29は、底壁36及び側壁37a,37bからなる断面U字状をなしており、シール本体28の内周面全体とシール本体28の内周角部を覆うように構成されている。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
フッ素系樹脂で形成されたリング状のシール本体と、
前記シール本体の内周部に設けられ、耐プラズマ性を有する材料で形成された保護リングとを備えるシール部材。
IPC (7件):
H01L21/31
, B01J19/08
, C23C16/44
, C23C16/50
, F16J15/12
, H01L21/3065
, H05H1/46
FI (7件):
H01L21/31 C
, B01J19/08 E
, C23C16/44 B
, C23C16/50
, F16J15/12 A
, H05H1/46 A
, H01L21/302 101C
Fターム (38件):
3J040AA17
, 3J040BA01
, 3J040EA01
, 3J040EA15
, 3J040EA17
, 3J040EA42
, 3J040FA01
, 3J040FA07
, 3J040HA06
, 4G075AA30
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC25
, 4G075FB02
, 4G075FB12
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 4K030KA45
, 4K030KA46
, 4K030LA11
, 4K030LA15
, 5F004AA13
, 5F004AA16
, 5F004BB22
, 5F004BC01
, 5F004BC08
, 5F045AA08
, 5F045AB32
, 5F045AC01
, 5F045AC02
, 5F045AC11
, 5F045AC16
, 5F045BB08
, 5F045BB14
, 5F045EB05
引用特許:
審査官引用 (10件)
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特開昭55-017705
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プラズマCVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-149147
出願人:松下電器産業株式会社
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特開昭58-199529
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-290036
出願人:東京エレクトロン株式会社
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シール
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-300988
出願人:三菱電線工業株式会社
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プラズマ洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-331069
出願人:ヤマト科学株式会社
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金属膜のエッチング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-211721
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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耐プラズマ性シール
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-153585
出願人:三菱電線工業株式会社
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OリングおよびそのOリングを備えた真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-109459
出願人:株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
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シール装置及び処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-352499
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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