有機EL素子の有機薄膜層成膜方法、有機EL素子の有機薄膜層成膜装置及び有機EL素子。

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-096778
公開番号（公開出願番号）：特開2007-273229
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】ダークスポットが経時的に発生しにくく信頼性の高い、高分子有機EL素子の有機薄膜層成膜方法等を提供する。【解決手段】高分子ポリマーと有機溶媒とを含む有機薄膜溶液をベタ膜状に塗布し有機溶媒を揮発させて発光層や正孔輸送層等の有機薄膜層を成膜する有機EL素子の有機薄膜層成膜方法において、成膜に先立って、有機薄膜層を成膜する雰囲気を低露点でかつ有機蒸気を含んだ雰囲気に調節し、この雰囲気中で有機薄膜層を成膜することを特徴とする有機EL素子の有機薄膜層成膜方法とした。このような成膜方法を実現するための簡易な成膜装置は、有機薄膜層を成膜するコーター(51)と、コーター(51)を内部に設置する成膜ボックス71と、成膜ボックス71の内部空間を低露点雰囲気に調節する除湿機81と、成膜ボックス71の内部空間を有機蒸気を含んだ雰囲気に調節する有機蒸気発生機(91)とから構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

高分子ポリマーと有機溶媒とを含む有機薄膜溶液をベタ膜状に塗布し有機溶媒を揮発させて発光層や正孔輸送層等の有機薄膜層を成膜する有機EL素子の有機薄膜層成膜方法において、成膜に先立って、有機薄膜層を成膜する雰囲気を低露点でかつ有機蒸気を含んだ雰囲気に調節し、該雰囲気中で有機薄膜層を成膜することを特徴とする有機EL素子の有機薄膜層成膜方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 , H01L 51/50

FI (2件)：

H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (8件)：

3K107AA01 , 3K107CC45 , 3K107DD70 , 3K107DD71 , 3K107DD87 , 3K107GG06 , 3K107GG28 , 3K107GG35

引用特許：

出願人引用 (4件)

有機EL素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-128067 出願人：キヤノン株式会社
有機電界発光素子の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-370744 出願人：株式会社美和製作所
有機EL材料塗布装置とその塗布方法および有機EL表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-184618 出願人：株式会社東芝

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審査官引用 (5件)

成膜装置、発光装置及びその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-208605 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及びその製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-119259 出願人：日本放送協会
毛管現象による塗工ノズルを用いた有機ELパネルの製造装置及び製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-326159 出願人：株式会社ヒラノテクシード

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