特許
J-GLOBAL ID：200903026678161327
リソグラフィ・プロセス及びリソグラフィ・システムの評価方法、基板処理装置の調整方法、リソグラフィ・システム、露光方法及び装置、並びに感光材料の状態の測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-126644
公開番号（公開出願番号）：特開2002-015992
出願日： 2001年04月24日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ・システムを構成するレジストコータ、露光装置、及び現像装置のそれぞれの特性を互いに独立に評価する。【解決手段】 通常の露光時には、レジストコータ54でフォトレジストが塗布されたウエハが投影露光装置50のウエハステージ39上に搬送されて露光が行われた後、現像装置59にて現像が行われる。特性の評価時には、フォトレジストが塗布されたウエハの各ショット領域に対して、投影露光装置50において投影光学系の有効視野中の狭い領域で所定の評価用マークの像が露光され、現像後のレジストパターンの状態を検出することによって、レジストコータ54又は現像装置59の特性が評価される。投影露光装置50の結像特性の評価時には、その有効視野の広い領域で所定の複数の評価用マークの像が露光される。
請求項（抜粋）：
感光材料が塗布された基板に所定の現像パターンを形成するために、感光材料の塗布工程、露光工程及び現像工程を含むリソグラフィ・プロセスの評価方法であって、感光材料が塗布された基板を評価用パターンを介して露光し;露光した基板を現像して現像パターンを形成し;形成した現像パターンを観測し;該観測結果から、現像パターンにそれぞれ影響を与える前記塗布工程に特有の塗布因子、前記露光工程に特有の露光因子、及び前記現像工程に特有の現像因子の少なくとも一つの因子を他の因子とは独立して求めることを含む評価方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 D
, G03F 1/08 M
, H01L 21/30 502 Z
2H095BB02
, 2H095BB06
, 2H095BB14
, 2H095BD03
, 2H095BE05
, 2H095BE06
, 2H095BE07
, 5F046AA17
, 5F046AA28
, 5F046DA29
, 5F046JA22
, 5F046JA27
, 5F046KA10
, 5F046LA18
, 5F046LA19
