特許
J-GLOBAL ID：200903026984555410
光学素子の表面平滑化方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
林 信之
, 安彦 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-133279
公開番号（公開出願番号）：特開2009-282232
出願日： 2008年05月21日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】光学素子の表面形状に依存することなく、しかも低コスト、小電力でしかも短時間で、光学素子表面に形成されたナノオーダの凹凸をエッチングして平滑化する。【解決手段】光学素子2を原料ガス雰囲気中に複数段に亘り重ねて配置し、原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を光学素子2に照射することにより、これを光学素子2の上段から下段へ順次透過させ、各光学素子2表面に形成された凹凸における少なくとも先鋭化部分において発生させた近接場光に基づいて原料ガスを解離させてエッチングすることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光学素子を原料ガス雰囲気中に複数段に亘り互いに間隙を設けて配置し、
上記原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を上記光学素子に照射することにより、これを上記光学素子の上段から下段へ順次透過させ、
各光学素子表面に形成された凹凸における少なくとも角部において発生させた近接場光に基づいて上記原料ガスを解離させてエッチングすること
を特徴とする光学素子の表面平滑化方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B3/00 Z
, H01L21/302 104Z
5F004BB02
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA05
, 5F004DA11
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA25
, 5F004DB00
, 5F004DB03
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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