検査方法およびそれを使用する装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-113702
公開番号（公開出願番号）：特開2007-333729
出願日： 2007年04月24日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：

【課題】パターン化構造を備える物体上の汚染粒子を検査するための方法およびデバイスを提供する。【解決手段】放射ビームを物体に誘導するための放射システムを含む。物体は、ビームを散乱する構成となっている。デバイスは、物体から散乱放射を受け取るように構成された光学システム、および光学システム内に設けられたフィルタも含む。フィルタは、散乱放射から放射を除去するように、パターン化構造に関連付けられる。デバイスは、フィルタによって透過された放射の一部を検出するように構成されたディテクタも含む。したがって、汚染粒子を、迅速かつ正確に検出することができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

パターン化構造を備える物体に汚染粒子があるか否かを検査するための方法であって、放射ビームを前記物体に誘導すること、前記物体から散乱放射を受け取ること、前記散乱放射からの放射をフィルタを用いてフィルタリングすること、および、前記物体上の汚染粒子を表すものとして前記フィルタによって透過された前記散乱放射の一部を検査すること、を含み、前記フィルタが、汚染粒子の存在を検出するように、検出されたスペックルパターンと粒子フリーのパターン化表面に関連付けられた所定のスペックルパターンとの差によって設けられたスペックル差パターンを生成するように構成される方法。

IPC (4件)：

G01N 21/956 , G03F 1/08 , H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (5件)：

G01N21/956 A , G03F1/08 S , H01L21/30 503G , G03F7/20 521 , H01L21/30 502P

Fターム (25件)：

2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051CB05 , 2G051CB06 , 2G051CC07 , 2G051CC20 , 2H095BA01 , 2H095BD05 , 2H095BD13 , 2H095BD20 , 2H095BD27 , 5F046AA18 , 5F046BA03 , 5F046CB08 , 5F046CB17 , 5F046CB23 , 5F046DB05 , 5F046DB11 , 5F046DC04 , 5F046GA12 , 5F046GD10 , 5F046GD11

引用特許：

審査官引用 (12件)

マスク用コンテナ、リソグラフ・マスクをコンテナ内へ移送する方法及びコンテナ内のマスクを走査する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-429098 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
欠陥検査装置およびその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-206078 出願人：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
表面観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-172122 出願人：科学技術振興事業団, 小俣公夫, 井口敏, 新田勇

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