特許
J-GLOBAL ID：200903027792472908
グロープラズマ放電装置
発明者：
クンハード,エリッチ,イー
クンハード,エリッチ,イー について
名寄せID(JGPN) 200901100901152848 ですべてを検索
「クンハード,エリッチ,イー」ですべてを検索
,
ベッカー,カート,エイチ
ベッカー,カート,エイチ について
名寄せID(JGPN) 201201101027246260 ですべてを検索
「ベッカー,カート,エイチ」ですべてを検索
出願人/特許権者：
トラスティーズ・オブ・ザ・スティーブンス・インスティテュート・オブ・テクノロジー
トラスティーズ・オブ・ザ・スティーブンス・インスティテュート・オブ・テクノロジー について
名寄せID(JGON) 201551000094018087 ですべてを検索
「トラスティーズ・オブ・ザ・スティーブンス・インスティテュート・オブ・テクノロジー」ですべてを検索
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外2名)
公報種別：
公表公報
出願番号（国際出願番号）：
特願平10-540704
公開番号（公開出願番号）：
特表2001-527689
出願日：
1998年03月17日
公開日（公表日）：
2001年12月25日
要約：
【要約】穿孔された誘電体(30)で蔽われた電極(20,40)を有するグロープラズマ放電装置が開示される。
請求項（抜粋）：
対面関係に位置された一対の電極; 電極の中の一つを蔽う様に置かれた穿孔誘電体;及び 電極間に発生された電界: を含むグロープラズマ放電を発生し且つ維持するための装置。
IPC (2件)：
H05H 1/24
, H05H 1/46
FI (2件)：
H05H 1/24
, H05H 1/46 M
引用特許：
審査官引用 (13件)
プラズマ処理方法およびその装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平4-160915
出願人：
松下電工株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
高周波導入用窓材
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平7-221299
出願人：
京セラ株式会社
静電チャック及びプラズマ処理装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平6-110762
出願人：
日電アネルバ株式会社
プラズマ状態検出方法及びその装置、プラズマ制御方法及びその装置並びにエッチング終点検出方法及びその装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平7-053672
出願人：
セイコーエプソン株式会社
静電チャック及びその作製方法並びに基板処理装置及び基板搬送装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平5-019462
出願人：
ソニー株式会社
特開昭62-218577
微細セラミックス構造体の形成方法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平6-232825
出願人：
住友電気工業株式会社
ハイブリッド回路
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平6-319892
出願人：
ベネディクト・ジー・ペース
特開昭62-218577
大気圧プラズマ反応の利用方法及びその装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平3-218035
出願人：
株式会社きもと, キモトテツクインコーポレイテツド, 岡崎幸子, 小駒益弘
大気圧プラズマによる表面処理法
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平3-055701
出願人：
イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
特表平7-503422
プラズマ処理装置
公報種別：
公開公報
出願番号：
特願平7-240876
出願人：
東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
全件表示
前のページに戻る
TOP
BOTTOM
