厚い被覆を形成するための溶射方法および得られる製品

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-551053
公開番号（公開出願番号）：特表2002-516920
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】複合金属酸化物の非常に厚い層の生成を可能にする、基板上に材料を溶射してその上に被覆を生成するための方法および装置が記載される。この装置および方法は、超伝導被覆を生成するのに特に適している。

請求項（抜粋）：

基板と前記基板上に堆積される被覆とを含む複合材料であって、前記被覆は溶射によって堆積され、前記被覆の厚さは少なくとも5mmであり、より好ましくは8mmより大きく、前記被覆は金属酸化物を含む、複合材料。

IPC (3件)：

C23C 4/10 , C23C 4/12 , C23C 14/34

FI (3件)：

C23C 4/10 , C23C 4/12 , C23C 14/34 A

Fターム (13件)：

4K029BC04 , 4K029DC05 , 4K029DC07 , 4K029DC13 , 4K031AA08 , 4K031AB02 , 4K031AB03 , 4K031AB07 , 4K031AB08 , 4K031CB42 , 4K031DA01 , 4K031DA04 , 4K031EA03

引用特許：

審査官引用 (20件)

特開平2-111877
ターゲットとその製造方法および高屈折率膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-118763 出願人：旭硝子株式会社
セラミックス回転カソードターゲット及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-250544 出願人：旭硝子株式会社

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