特許
J-GLOBAL ID：200903027802098120
液晶表示素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 朝日 伸光
, 三山 勝巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-244530
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070788
出願日： 2004年08月25日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】配向工程をラビング工程とイオンビーム照射、光照射、又はプラズマ照射などを並行して行うことで、ラビング不良による光漏れを防止しかつコントラスト比を向上させることのできる液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】ラビング工程におけるラビング不良を防止するための液晶表示素子の製造方法は、第1基板及び第2基板を用意する段階と、前記第1基板上に薄膜トランジスターを形成する段階と、前記薄膜トランジスターを含む前記第1基板の全面に第1配向膜を形成する段階と、前記第1配向膜にラビング工程、及び配向方向整列工程を並行する段階と、前記第1基板及び第2基板の間に液晶層を形成する段階とを含むことを特徴とする。【選択図】 図9e
請求項（抜粋）：
第1基板及び第2基板を用意する段階と、
前記第1基板上に薄膜トランジスターを形成する段階と、
前記薄膜トランジスターを含む前記第1基板の全面に、第1配向膜を形成する段階と、
前記第1配向膜にラビング工程、及び配向方向整列工程を行う段階と、
前記第1基板及び第2基板の間に液晶層を形成する段階と、
を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (5件)：
G02F1/1337
, G02F1/1333
, G02F1/1335
, G02F1/1343
, G02F1/1368
G02F1/1337 505
, G02F1/1337 525
, G02F1/1333 505
, G02F1/1335 505
, G02F1/1343
, G02F1/1368
2H090HA03
, 2H090HA04
, 2H090HA06
, 2H090HB08Y
, 2H090HC06
, 2H090HC11
, 2H090HC13
, 2H090HC17
, 2H090HD03
, 2H090HD05
, 2H090HD14
, 2H090KA05
, 2H090KA07
, 2H090LA01
, 2H090LA04
, 2H090LA15
, 2H090MA15
, 2H090MB01
, 2H090MB12
, 2H091FA02Y
, 2H091FA15Y
, 2H091FA35Y
, 2H091FD04
, 2H091GA03
, 2H091GA06
, 2H091GA07
, 2H091GA13
, 2H091GA16
, 2H091HA07
, 2H091HA09
, 2H091LA15
, 2H092GA14
, 2H092GA19
, 2H092GA29
, 2H092HA04
, 2H092HA05
, 2H092JA26
, 2H092JA46
, 2H092JB05
, 2H092JB08
, 2H092JB57
, 2H092JB58
, 2H092NA04
, 2H092PA02
, 2H092PA08
, 2H092PA09
