特許
J-GLOBAL ID：200903029253571750
潜在重ね合わせ測定
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-335420
公開番号（公開出願番号）：特開2006-148121
出願日： 2005年11月21日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】改善された潜在重ね合わせ測定の装置及び方法を開示すること。【解決手段】実施例では、スキャッタメータ及び過度露光重ね合わせターゲットが、高耐性の重ね合わせ測定を得るために使用される。重ね合わせ測定及び露光は同時に行うことができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを条件付けするように構成された照明システムと、
前記ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン形成デバイスを保持するように構成された支持物と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板の部分に投影するように構成された投影システムと、
他のパターン形成デバイスを含み、ターゲットを前記基板にプリントするように構成された露光ユニットと、を備えるリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EB07
, 5F046FA09
, 5F046FB20
