特許
J-GLOBAL ID：200903036551416801
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-346959
公開番号（公開出願番号）：特開2002-220417
出願日： 2001年11月13日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：
【要約】【解決手段】 式(1)で示される繰り返し単位を含むする高分子化合物。【化1】(R<SP>1</SP>はF又はフッ素化されたアルキル、R<SP>2</SP>はH又は酸不安定基、R<SP>3</SP>〜R<SP>8</SP>はH、F、アルキル又はフッ素化されたアルキル、R<SP>9</SP>は酸不安定基、密着性基及び少なくとも1個のフッ素原子を含む高透明性基から選ばれる少なくとも1個の基。i、jは正数。0<a<5、0<b<5、0<a+b≦5。)【効果】 本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、200nm以下、特に170nm以下の波長における感度が優れている上に、含フッ素ヒドロキシスチレン及び含フッ素アクリル酸エステルユニットの導入により基板密着性及びアルカリ現像性が向上し、それと同時に優れた解像性を有することがわかった。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示される繰り返し単位を含むことを特徴とする高分子化合物。【化1】(式中、R<SP>1</SP>はフッ素原子又はフッ素化されたアルキル基であり、R<SP>2</SP>は水素原子、又は酸不安定基を示す。R<SP>3</SP>〜R<SP>8</SP>は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化されたアルキル基である。R<SP>9</SP>は酸不安定基、密着性基及び少なくとも1個のフッ素原子を含む高透明性基から選ばれる少なくとも1個の基を表す。i、jは正数である。a、bは、0<a<5、0<b<5、0<a+b≦5である。)
IPC (4件)：
C08F212/12
, C08F220/10
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08F212/12
, C08F220/10
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03P
, 4J100BB07P
, 4J100BB18R
, 4J100BC03Q
, 4J100BC27Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100JA38
