特許
J-GLOBAL ID：200903029432750861

レーザ加工装置

発明者：
水村 通伸

水村 通伸 について

, 
齋藤 雄二

齋藤 雄二 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (2件)： 笹島 富二雄 ,  西山 春之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-049604
公開番号（公開出願番号）：特開2009-202223
出願日： 2008年02月29日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：
【課題】レーザ加工の作業能率の向上及び加工精度の向上を図る。【解決手段】複数のマイクロミラーにより、レーザ光源2から入射するレーザ光を反射させ、レーザ光の光束断面形状を規制して射出する光束規制手段3と、レーザ光により加工される被加工物10と対向して設けられレーザ光を被加工物10上に集光する対物レンズ4と、を備えたレーザ加工装置であって、光束規制手段3からレーザ光源2に向かう光路が分岐された光路上に設けられ光束規制手段3の複数のマイクロミラーに白色光を照射する白色光源6と、対物レンズ4から光束規制手段3に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えて上記複数のマイクロミラーで反射された白色光の被加工物10からの反射光を受光する撮像手段7と、対物レンズ4と被加工物10との間の距離を変位させる変位手段9と、を備えて、微小高さの測定を可能にしたものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
マトリクス状に並べられ個別に傾動する複数のマイクロミラーにより、レーザ光源から入射するレーザ光を反射させ、前記レーザ光の光束断面形状を規制して射出する光束規制手段と、前記レーザ光により加工される被加工物と対向して設けられ前記レーザ光を前記被加工物上に集光する対物レンズと、を備えたレーザ加工装置であって、 前記光束規制手段から前記レーザ光源に向かう光路が分岐された光路上に設けられ前記光束規制手段の複数のマイクロミラーに計測光を照射する計測用光源と、 前記対物レンズから前記光束規制手段に向かう光路が分岐された光路上に設けられ、複数の受光素子を備えて前記複数のマイクロミラーで反射された計測光の前記被加工物からの反射光を受光する撮像手段と、 前記対物レンズと前記被加工物との間の距離を変位させる変位手段と、 を備えて、前記撮像手段で検出される前記反射光の輝度変化に基づいて前記被加工物の微小高さの測定を可能にしたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (3件)：
B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  G01B 11/02
FI (3件)：
B23K26/06 Z ,  B23K26/00 M ,  G01B11/02 H
Fターム (33件)：
2F065AA24 ,  2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC21 ,  2F065FF10 ,  2F065FF44 ,  2F065FF67 ,  2F065GG02 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065GG07 ,  2F065GG24 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL05 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065NN20 ,  2F065PP02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ38 ,  2F065QQ51 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  4E068CB08 ,  4E068CC02 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068DA10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • レーザ加工装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-187829   出願人：オリンパス株式会社
審査官引用 (6件)
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