特許
J-GLOBAL ID:200903030651619337
光学素子の表面平滑化方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
林 信之
, 安彦 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-133280
公開番号(公開出願番号):特開2009-282233
出願日: 2008年05月21日
公開日(公表日): 2009年12月03日
要約:
【課題】光学素子の表面形状に依存することなく、しかも低コスト、小電力でしかも短時間で、光学素子表面に形成されたナノオーダの凹凸をエッチングして平滑化する。【解決手段】原料ガス雰囲気中に光学素子を配置し、太陽光を光学フィルター15により原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上のみ透過させ、光学フィルター15の透過光を光学素子に照射することにより、光学素子表面に形成された凹凸における少なくとも先鋭化部分43に近接場光を発生させ、発生させた近接場光に基づいて原料ガスを解離させることにより、少なくとも先鋭化部分43をエッチングすることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原料ガス雰囲気中に光学素子を配置し、
上記原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の太陽光のみを光学フィルターにより透過させ、
上記光学フィルターの透過光を上記光学素子に照射することにより、上記光学素子表面に形成された凹凸における少なくとも角部に発生させた近接場光に基づいて上記原料ガスを解離させてエッチングすること
を特徴とする光学素子の表面平滑化方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (6件):
4G059AA11
, 4G059AB01
, 4G059AB19
, 4G059AC03
, 4G059BB01
, 4G059BB12
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る