特許
J-GLOBAL ID：200903081257901624
サブ解像散乱バーを使用した中間ピッチフィーチャのための光学近接補正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-537655
公開番号（公開出願番号）：特表2001-513221
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】リソグラフィプロセスで使用されるマスク上での光学近接効果補正のために散乱バーを提供する方法が示される。リソグラフィプロセスの最小ピッチよりも大きく、且つ、独立した散乱バーを有する2つのフィーチャエッジの基準距離よりも小さい距離だけ間隔があけられるフィーチャのCDを制御するために、散乱バーの間隔および特性は、主要なフィーチャのエッジ位置とともに、調整され且つ変えられる。
請求項（抜粋）：
近接効果を補正するために、マスク上に解像不可能な補正フィーチャを提供する方法であって、該マスクは、少なくとも2つのフィーチャエッジを含み、該補正フィーチャは、関連する基準幅、所定のマスクフィーチャエッジからの関連する基準間隔、および隣接する補正フィーチャエッジ間の関連する基準間隔を有し、 マスク上の2つの隣接するマスクエッジ間に、単一の解像不可能な補正フィーチャを付加するステップを包含し、該補正フィーチャは、該2つの隣接するマスクエッジの各々に隣接するエッジを有し、該隣接する補正フィーチャエッジは、該2つの隣接するエッジから、該基準間隔よりも小さく且つ所定の最小距離よりも大きい距離だけ間隔があけられ、 マスク上の2つの隣接するエッジ間に、2つの解像不可能な補正フィーチャを付加するステップをさらに包含し、該補正フィーチャが、該2つの隣接する、エッジの各々から、該基準間隔よりも小さく且つ所定の最小距離よりも大きい距離だけ間隔があけられる、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
