特許
J-GLOBAL ID:200903031909281529

フルオロカーボンエッチングプラズマ中における次亜フッ素酸塩、フルオロペルオキシド及び(又は)フルオロトリオキシドの酸化剤としての使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-208865
公開番号(公開出願番号):特開2005-051236
出願日: 2004年07月15日
公開日(公表日): 2005年02月24日
要約:
【課題】多層基板において誘電材料を高いエッチング速度とマスクとの高いエッチング選択性を与える混合ガスを提供する。【解決手段】フルオロカーボンガスと、次亜フッ素酸塩、フルオロペルオキシド、フルオロトリオキシド及びその組み合わせからなる群から選ばれた含フッ素酸化剤ガスと、任意に不活性な希釈剤ガスとを含む混合物でエッチングする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
フルオロカーボン、及び 次亜フッ素酸塩、フルオロペルオキシド、フルオロトリオキシド及びその組み合わせからなる群から選ばれた含フッ素酸化剤 を含んでなる、多層基板において誘電材料をエッチングするための混合物。
IPC (1件):
H01L21/3065
FI (1件):
H01L21/302 105A
Fターム (15件):
5F004AA02 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BB25 ,  5F004DA00 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DB03 ,  5F004DB04 ,  5F004DB05 ,  5F004DB06 ,  5F004DB07 ,  5F004DB13 ,  5F004EB01
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
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