搬送機構、処理システム及び搬送方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-001831
公開番号（公開出願番号）：特開2003-203963
出願日： 2002年01月08日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：

【要約】【課題】屈伸運動や旋回運動を極力排除して、位置決め精度や繰り返し位置決め精度等を向上させることが可能な搬送機構を提供する。【解決手段】被処理体Wに対して所定の処理を施す処理装置20A〜20Fへ前記被処理体を搬送するための搬送機構において、搬送基台30と、前記搬送基台上に、実質的に同一平面上で且つ実質的に同一方向へ出没できるようにスライド可能に設けられると共に、先端部で前記被処理体を保持する複数の保持アーム部32A,32Bと、を備える。これにより、屈伸運動や旋回運動を極力排除して、位置決め精度や繰り返し位置決め精度等を向上させる。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して所定の処理を施す処理装置へ前記被処理体を搬送するための搬送機構において、搬送基台と、前記搬送基台上に、実質的に同一平面上で且つ実質的に同一方向へ出没できるようにスライド可能に設けられると共に、先端部で前記被処理体を保持する複数の保持アーム部と、を備えたことを特徴とする搬送機構。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , B65G 49/07

FI (2件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/07 D

Fターム (29件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA04 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA50 , 5F031KA13 , 5F031KA14 , 5F031LA09 , 5F031LA12 , 5F031LA13 , 5F031LA14 , 5F031MA04 , 5F031MA28 , 5F031MA32 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031PA06 , 5F031PA26 , 5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328684 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
搬送装置における吸着ハンド
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-176247 出願人：株式会社メックス
基板搬送装置及び処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-214595 出願人：東京エレクトロン株式会社

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