特許
J-GLOBAL ID：200903033544410718

プラズマ処理装置

発明者：
輿水 地塩

輿水 地塩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389644
公開番号（公開出願番号）：特開2003-188145
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：
【要約】【課題】 エッチングガスをプラズマ化しエッチャントイオンにより被処理基板にエッチング処理を行なうプラズマ処理装置において、供用時間の経過とともに発生する、被処理基板面上での処理均一性の劣化を抑制すること。【解決手段】 被処理基板面上での処理均一性は、電界補正リングの下面と下部電極(特にフォーカスリングの上面)との距離を一定に保てば、その均一性劣化をくい止めることができ、かつ、上部電極と下部電極との距離(間隔)を多少変化させること自体によっては、被処理基板上での処理特性はほとんど変化しないとの知見によっている。電界補正リングは、供用時間の累積とともに表面、特に下部電極に対向する面が削り取られる。そこで、削り取られ方に応じて上部電極と下部電極との間隔を変える。
請求項（抜粋）：
内部を減圧可能に構成された処理室と、前記処理室の天井部に設けられ、前記処理室にエッチングガスを導入する細孔を有し前記導入されたエッチングガスに比較的高周波の電圧を印加可能な上部電極と、前記上部電極に対向して前記処理室の内部に設けられ、被処理基板を載置・保持可能でかつ前記導入されたエッチングガスに比較的低周波の電圧を印加可能な下部電極と、前記下部電極に対向する下面を有し前記下面が前記上部電極の下面より低い位置になるように前記上部電極に接して配設された環状の電界補正リングと、前記処理室に接続して設けられ、前記上部電極と前記下部電極との間隔を変動させる電極間隔変動機構と、前記電極間隔変動機構に接続して設けられ、累積供用時間に応じて前記上部電極と前記下部電極との間隔を設定すべく前記電極間隔変動機構を制御する制御手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。
Fターム (6件)：
5F004AA01 ,  5F004BA07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004CA05
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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