特許
J-GLOBAL ID:200903033934569599
ボロメータ用酸化物薄膜の製造方法
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
,
代理人 (1件):
後藤 洋介 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-089149
公開番号(公開出願番号):特開2002-284529
出願日: 2001年03月27日
公開日(公表日): 2002年10月03日
要約:
【要約】【課題】 高感度のボロメータ方式非冷却赤外線センサを提供すると共に、大きな温度係数(TCR)を有するボロメータ用酸化物薄膜及びそれを用いた赤外線センサの製造方法を提供する。【解決手段】 金属有機化合物を絶縁性基板上に塗布、乾燥させた後に波長400nm以下のレーザー光を照射することにより、500°C以下の低温でペロブスカイト型Mn酸化物薄膜を結晶化して、電気抵抗の温度係数が大きいボロメータ用酸化物薄膜を製造する。また、上記ペロブスカイト型Mn酸化物薄膜を形成する際に、マスクパターンを用いてボロメータ用抵抗体を直接絶縁体基板上に形成することによって赤外線センサを製造する。
請求項(抜粋):
絶縁性基板上に形成された酸化物薄膜が、Aを三価の希土類金属、Bをニ価のアルカリ土類金属として、A<SB>1-x</SB>B<SB>x</SB>MnO<SB>3</SB> (0<x<1)で表されるペロブスカイト型Mn酸化物からなり、この酸化物薄膜の電気抵抗を測定して照射された輻射エネルギー強度を測定するボロメータ用の酸化物薄膜の製造方法において、上記酸化物薄膜を作製する際に、金属有機化合物を溶媒に溶解させて溶液状とし、この金属有機化合物の溶液を、上記絶縁性基板上に塗布して乾燥させ、その後、波長400nm以下のレーザー光を照射して炭素-酸素結合を切断して分解し、生成した酸化物を結晶化させることを特徴とするボロメータ用酸化物薄膜の製造方法。
IPC (3件):
C01G 45/00
, H01L 31/0264
, H01L 37/00
FI (3件):
C01G 45/00
, H01L 37/00
, H01L 31/08 M
Fターム (13件):
4G048AA05
, 4G048AB01
, 4G048AB02
, 4G048AC08
, 4G048AD02
, 4G048AD08
, 4G048AE08
, 5F088AA11
, 5F088AB01
, 5F088BB06
, 5F088CB20
, 5F088GA03
, 5F088LA01
引用特許:
前のページに戻る