特許
J-GLOBAL ID：200903036270983847
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 市郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-236532
公開番号（公開出願番号）：特開2006-054148
出願日： 2004年08月16日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】 プラズマ処理装置の処理特性の変動を検出し、変動を抑制することのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 内部側壁を絶縁処理した反応容器1と、反応容器内に配置した試料台5、アンテナ10を備え、該アンテナにプラズマ発生用電源から高周波電力を供給して反応容器内に導入した処理ガスをプラズマ化して試料台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、プラズマ発生用電源とアンテナを含む負荷回路との間にインピーダンス整合をとるための整合器11を備え、該整合器は、負荷回路側のインピーダンス特性を測定するセンサと、センサの測定値に応じて整合器の入力端より負荷側をみた整合到達点及び該整合到達点に至る整合動作軌跡を変更する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
内部側壁を絶縁処理した反応容器と、
反応容器内に配置した試料台、アンテナを備え、該アンテナにプラズマ発生用電源から高周波電力を供給して反応容器内に導入した処理ガスをプラズマ化して試料台上に載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
プラズマ発生用電源とアンテナを含む負荷回路との間にインピーダンス整合をとるための整合器を備え、
該整合器は、負荷回路側のインピーダンス特性を測定するセンサと、センサの測定値に応じて整合器の入力端より負荷側を見た整合到達点及び該整合到達点に至る整合動作軌跡を変更することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/46
, H05H 1/00
, H01L 21/306
H05H1/46 R
, H05H1/00 A
, H01L21/302 101D
5F004BA04
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004CA03
, 5F004CA08
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DB02
出願人引用 (3件)
審査官引用 (11件)
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プラズマ処理装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-083681
出願人：三菱電機株式会社
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プラズマ処理装置の処理方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-345974
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
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特開平3-263828
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