微小物体加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：清原義博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-158291
公開番号（公開出願番号）：特開2005-335020
出願日： 2004年05月27日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】細胞等の処理対象となる微小物体に作用させる力の強さや操作精度を操作の場面に応じて変化させることが可能であって、操作処理の効率を大いに向上させ得るとともに、細胞への適用を中心とする広範な用途に幅広く使用できる高汎用性の微小物体加工装置を提供すること。【解決手段】衝撃波により試料セル中に含まれる微小物体を操作するための超短パルスレーザーを出力する第1レーザー光源と、放射圧により前記微小物体を操作するためのトラッピング用レーザーを出力する第2レーザー光源と、これら第1及び第2レーザー光源から出力されたレーザー光を前記試料セル中へと導く導光手段とを具備してなる微小物体加工装置とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

衝撃波により試料セル中に含まれる微小物体を操作するための超短パルスレーザーを出力する第1レーザー光源と、放射圧により前記微小物体を操作するためのトラッピング用レーザーを出力する第2レーザー光源と、これら第1及び第2レーザー光源から出力されたレーザー光を前記試料セル中へと導く導光手段とを具備してなることを特徴とする微小物体加工装置。

IPC (2件)：

B82B3/00 , H01S3/00

FI (3件)：

B82B3/00 , H01S3/00 B , G01N1/28 F

Fターム (26件)：

2G052AA28 , 2G052AA33 , 2G052AB16 , 2G052AB18 , 2G052AD14 , 2G052AD34 , 2G052BA27 , 2G052CA03 , 2G052CA04 , 2G052CA20 , 2G052CA46 , 2G052DA07 , 2G052FA10 , 2G052GA32 , 2G052HC02 , 2G052HC15 , 2G052HC32 , 2G052JA07 , 2G052JA09 , 5F172AE03 , 5F172AE06 , 5F172DD06 , 5F172NN17 , 5F172NR06 , 5F172ZZ01 , 5F172ZZ03

引用特許：

出願人引用 (1件)

レーザーマニピュレーション装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-297823 出願人：エレクトロン機器株式会社, 増原宏, 科学技術振興事業団

審査官引用 (10件)

微粒子の光回転駆動方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-255103 出願人：新技術事業団
ナノサイズ構造体の製造方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-262724 出願人：科学技術振興事業団
微粒子、特に生物学的粒子の操作、処理及び観察のための装置及び方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-515695 出願人：シュッツェライムント

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