特許
J-GLOBAL ID:200903037318829167

薄膜太陽電池製造システムおよび薄膜太陽電池製造システムにおける検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 藤田 考晴 ,  上田 邦生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-041370
公開番号(公開出願番号):特開2005-235920
出願日: 2004年02月18日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
【課題】 薄膜太陽電池の歩留まりを向上することができる薄膜太陽電池製造システムおよび薄膜太陽電池製造システムにおける検査方法を提供すること。【解決手段】 基板に透明電極、アモルファスシリコン膜および裏面電極を製膜し、モジュール化した後パネル化する薄膜太陽電池製造システムにおいて、基板に設けられた個別マーカと、透明電極製膜後に連続的に基板の中間検査を行う透明電極検査装置70と、アモルファスシリコン膜製膜後に連続的に基板の中間検査を行うアモルファスシリコン膜検査装置71と、前記透明電極検査装置70およびアモルファスシリコン膜検査装置71による基板の検査結果を前記個別マーカに対応させて管理する品質管理装置とを備えている。個別マーカとしては、2次元バーコードによるIDマーカとする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板に透明電極、シリコン系薄膜および裏面電極を製膜し、モジュール化した後パネル化する薄膜太陽電池製造システムにおいて、 基板に設けられた個別マーカと、 透明電極製膜後に連続的に基板の中間検査を行う透明電極検査装置と、 前記透明電極検査装置による基板の検査結果を前記個別マーカに対応させて管理する品質管理装置とを備えていることを特徴とする薄膜太陽電池製造システム。
IPC (1件):
H01L31/04
FI (2件):
H01L31/04 K ,  H01L31/04 B
Fターム (5件):
5F051AA05 ,  5F051BA14 ,  5F051CA15 ,  5F051CA40 ,  5F051KA10
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (17件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)
  • 太陽光発電, 19821105, 第1版, p.466-470

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