特許
J-GLOBAL ID：200903037850092164

ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
加藤 貴之

加藤 貴之 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-263060
公開番号（公開出願番号）：特開2008-083370
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】ラインウィズスラフネス、PEB温度依存性及び現像欠陥について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記繰り返し単位(1)〜(4)のすべてを含有する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。(1)ラクトン構造を有する第一の繰り返し単位、(2)ラクトン構造を有し、かつ第一の繰り返し単位とは異なる第二の繰り返し単位、(3)下記一般式(p-I)〜(p-V)から選ばれる構造を有する第三の酸分解性繰り返し単位、(4)下記一般式(p-I)〜(p-V)から選ばれから選ばれる構造を有し、かつ第三の酸分解性繰り返し単位とは異なる、第四の酸分解性繰り返し単位。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記繰り返し単位(1)〜(4)のすべてを含有する樹脂、 (B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、 (C)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 (1)ラクトン構造を有する第一の繰り返し単位、 (2)ラクトン構造を有し、かつ第一の繰り返し単位とは異なる第二の繰り返し単位、 (3)下記一般式(p-I)〜(p-V)から選ばれる構造を有する第三の酸分解性繰り返し単位、 (4)下記一般式(p-I)〜(p-V)から選ばれから選ばれる構造を有し、かつ第三の酸分解性繰り返し単位とは異なる、第四の酸分解性繰り返し単位。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/26
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/26
Fターム (32件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA40P ,  4J100BA40R ,  4J100BC03S ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC09S ,  4J100BC09T ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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