特許
J-GLOBAL ID:200903039113897502

感放射線性樹脂組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 清路 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-232347
公開番号(公開出願番号):特開2003-043679
出願日: 2001年07月31日
公開日(公表日): 2003年02月13日
要約:
【要約】【課題】 ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明の感放射線性樹脂組成物は、2,4,6-トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム2,4-ジフルオロベンゼンスルホネート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム2,4-ジフルオロベンゼンスルホネート等の感放射線性酸発生剤、o-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン等、およびこれらのヒドロキシル基の水素原子を1価の酸解離性基で置換した化合物の重合性不飽和結合が開裂してなる単位をあわせ有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、およびo-ヒドロキシスチレン、m-ヒドロキシスチレン等の重合性不飽和結合が開裂してなる単位を有する溶解促進剤を含有する。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)および(2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種を含有する感放射線性酸発生剤、【化1】[一般式(1)において、R1〜R15は相互に独立に、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルコキシル基またはt-ブトキシカルボニルメトキシ基を示し、かつR1〜R5のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件、R6〜R10のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件およびR11〜R15のうちの2個以上が水素原子以外の基である条件の少なくとも1つの条件を満たす。また、R16〜R20は相互に独立に、水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、かつR16〜R20のうちの少なくとも1個がフッ素原子またはトリフルオロメチル基である。]【化2】[一般式(2)において、R21〜R30は相互に独立に、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状、もしくは環状のアルコキシル基またはt-ブトキシカルボニルメトキシ基を示す。また、R31〜R35は相互に独立に、水素原子、フッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、かつR31〜R35のうちの少なくとも1個がフッ素原子またはトリフルオロメチル基である。]、(B)下記一般式(3)で表される繰り返し単位と、酸解離性基を含有する繰り返し単位とを有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂、【化3】[一般式(3)においてR36は1価の有機基を示し、nは1〜3の整数であり、mは0〜3の整数である。]、ならびに、(C)上記一般式(3)で表される繰り返し単位を有し、アルカリ現像液中の溶解速度が(B)アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂より大きく、重量平均分子量が1200〜6000の溶解促進剤、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (4件):
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (12件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20
引用特許:
審査官引用 (12件)
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