化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-065432
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258915
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】感度や解像度などのレジスト諸性能が良好であるとともに、基板への接着性に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、Xはアルキレンを表し、Yは2価の炭化水素残基を表し、nは0又は1を表す)で示されるシアノ基含有重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用で上記酸に不安定な基が解裂した後はアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物。ここで規定する樹脂はまた、他の重合単位、例えば、ラクトン環がアルキルで置換されてもよいα-(メタ)アクリロイロキシ-γ-ブチロラクトンや無水マレイン酸の各重合単位を有することもできる。

請求項（抜粋）：

下式(I)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、Xはアルキレンを表し、Yは2価の炭化水素残基を表し、nは0又は1を表す)で示されるシアノ基含有重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用により上記酸に不安定な基が解裂した後はアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F220/42 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08F220/10 , C08F220/42 , H01L 21/30 502 R

Fターム (29件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE10 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43 , 2H025CC20 , 4J100AK32Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA11Q , 4J100BA15R , 4J100BA40R , 4J100BC04R , 4J100BC07R , 4J100BC08R , 4J100BC09P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (8件)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-037872 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性樹脂組成物、その組成物を用いたパターン形成方法、および、電子装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263278 出願人：株式会社日立製作所
ポリイオン性ポリマー化合物、その製造方法及び光開始剤としての使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-271212 出願人：アラン・ヴァレー, ミシュル・アルマン, グザヴィエ・オリヴラン, クリストフ・ミショト

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審査官引用 (8件)

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-037872 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性樹脂組成物、その組成物を用いたパターン形成方法、および、電子装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263278 出願人：株式会社日立製作所
ポリイオン性ポリマー化合物、その製造方法及び光開始剤としての使用
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-271212 出願人：アラン・ヴァレー, ミシュル・アルマン, グザヴィエ・オリヴラン, クリストフ・ミショト

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