特許
J-GLOBAL ID：200903042636082139

ネガ型レジスト組成物

発明者：
立川 俊和

立川 俊和 について

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金子 文武

金子 文武 について

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宮入 美和

宮入 美和 について

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小林 政一

小林 政一 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-320002
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131843
出願日： 1998年10月24日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【目的】解像性やプロファイル形状に優れる上に、経時安定性がよく実用的なネガ型レジスト組成物を提供すること。【構成】(A)放射線の照射により酸を発生するジアゾスルホン酸系化合物及び(B)有機アミン化合物を含有してなることを特徴とするネガ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)放射線の照射により酸を発生するジアゾスルホン酸系化合物及び(B)有機アミン化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (20件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20
引用特許：
審査官引用 (10件)
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