特許
J-GLOBAL ID：200903043330040668
光学素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-511876
公開番号（公開出願番号）：特表2007-537426
出願日： 2004年05月14日
公開日（公表日）： 2007年12月20日
要約：
光学素子(5)の製造方法は、検査された光学素子(5)の副開口部のみを照明する測定光のビーム(13)を発生させる干渉計光学系(1)を用いて光学素子(5)を検査する工程を含む。干渉計光学系(1)は、ホログラムを備えている。副開口部測定の結果が組み合わされ、光学素子(5)の表面全体に関する測定結果が得られる。さらに、干渉計光学系(1)を較正する方法は、干渉計光学系(1)によって発生した測定光のビーム(13)の全断面の副開口部のみをカバーするホログラムを有する較正光学系を用いた干渉測定を行う工程と、干渉計光学系(1)の全断面を示す結果を得るために、副開口部測定値を組み合わせる工程とを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
回転対称軸を有する、目標とする非球面形状の光学面を備えた光学素子の製造方法であって、
ホログラムを有する少なくとも1つの基板を備えた干渉計光学系であって、測定光のビームの少なくとも1つの部分が、前記ホログラムを有する前記少なくとも1つの基板を横切り、前記基板を横切る前記部分が、前記光学面の一部分のみを照明し、前記光学面上の前記照明される部分の面積が、前記光学面の総面積の約80%未満である干渉計光学系を用いて、前記測定光のビームを前記光学面上へ導く工程と、
前記光学面の前記目標とする形状の前記回転対称軸と略一致する回転軸を中心とした複数の回転位置に前記光学面の位置決めを行い、参照光と、前記光学面上の前記照明された部分と相互作用した前記測定光とを重ね合わせることにより、前記光学素子の前記複数の回転位置のそれぞれにおいて、少なくとも1つの第1の干渉測定を行う工程と、
前記光学素子の前記複数の回転位置において行われた、前記第1の干渉測定に基づいて、前記光学面の、その目標とする形状からのずれを決定する工程と、
前記決定されたずれに基づいて、前記光学素子の前記光学面を加工する工程とを含むことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (23件)：
2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC22
, 2F065FF53
, 2F065GG05
, 2F065HH03
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065LL04
, 2F065LL30
, 2F065LL47
, 2F065LL51
, 2F065MM04
, 2F065PP13
, 2F065PP22
, 2F065QQ03
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065RR07
, 2F065SS03
, 2F065TT08
, 2F065UU07
出願人引用 (5件)
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米国特許第4,732,483号明細書
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米国特許第4,340,306号明細書
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米国特許第5,473,434号明細書
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米国特許第5,777,741号明細書
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米国特許第5,488,477号明細書
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審査官引用 (8件)
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