特許

J-GLOBAL ID：200903046097721063

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

発明者： 西村 秀樹 ,  蓑輪 貴樹 ,  高本 英司 ,  佐野 公康 ,  西川 通則
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-282830
公開番号（公開出願番号）：特開2005-049691
出願日： 2003年07月30日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】 高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物、電子部品の層間絶縁膜およびマイクロレンズの提供。【解決手段】 [A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)下記式【化1】で表される脂環式エポキシ骨格を有する不飽和化合物、および(a3)(a1)および(a2)以外の不飽和化合物の共重合体、並びに [B]1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、を含有する感放射線性樹脂組成物。それから製造された層間絶縁膜およびマイクロレンズ。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

[A](a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)下記式

IPC (6件)：

G03F7/033 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G03F7/033 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 A ,  G03F7/022 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA10 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-174948   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物およびその硬化物の素子への使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-162222   出願人：ジェイエスアール株式会社
• レンズ用感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-198980   出願人：日本合成ゴム株式会社
• マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-284585   出願人：日本合成ゴム株式会社

審査官引用 (4件)

• 感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-271801   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-091877   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-174948   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ネガ型フォトレジスト材料、およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-162716   出願人：日本電気株式会社