特許
J-GLOBAL ID：200903046936498200
フォーカスモニターマークを有するフォトマスク及び転写シミュレーション方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-341581
公開番号（公開出願番号）：特開2007-147941
出願日： 2005年11月28日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】リソグラフィシミュレーション顕微鏡を用いたフォトマスクの転写シュミレーションにおいて、フォトマスク面内の任意の箇所でフォーカスを正確に制御することができるフォトマスクと、フォトマスクの転写シュミレーション方法を提供することを目的とする。【解決手段】リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム80をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
透明基板上にメインパターンが形成されてなる転写有効領域とパターンが形成されていない転写有効領域外とが設けられたフォトマスクであって、前記パターンが形成されていない転写有効領域外にフォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークを配置したことを特徴とするフォーカスモニターマークを有するフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20
, H01L 21/027
G03F1/08 S
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
, G03F1/08 A
2H095BA02
, 2H095BB02
, 2H095BD03
, 2H095BD04
, 2H095BD11
, 2H095BE06
出願人引用 (1件)
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光クロスコネクト装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-043665
出願人：富士通株式会社
審査官引用 (8件)
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