特許
J-GLOBAL ID:200903046999801469
表面検査装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 祥二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-181136
公開番号(公開出願番号):特開2003-130809
出願日: 2002年06月21日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】表面検査装置の較正工程で人手を介在させることなく、検査効率の向上を図る。【解決手段】搬送ロボット17を有するウェーハ搬送部1と、表面検査部とを具備する表面検査装置に於いて、既知の粒子が付着された較正用ウェーハを収納する較正用ウェーハ収納部29を設けた。
請求項(抜粋):
搬送ロボットを有するウェーハ搬送部と、表面検査部とを具備する表面検査装置に於いて、既知の粒子が付着された較正用ウェーハを収納する較正用ウェーハ収納部を具備したことを特徴とする表面検査装置。
IPC (4件):
G01N 21/956
, G01B 11/30
, G01N 21/93
, H01L 21/66
FI (4件):
G01N 21/956 A
, G01B 11/30 Z
, G01N 21/93
, H01L 21/66 J
Fターム (34件):
2F065AA26
, 2F065AA49
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065DD00
, 2F065DD13
, 2F065FF01
, 2F065FF42
, 2F065GG04
, 2F065HH12
, 2F065JJ05
, 2F065JJ08
, 2F065MM04
, 2F065RR07
, 2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AC04
, 2G051BA10
, 2G051CA02
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051DA03
, 2G051DA08
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA24
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2G051FA10
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CA41
, 4M106DB20
引用特許:
出願人引用 (11件)
-
検査装置及び検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-175890
出願人:ソニー株式会社
-
クリーン度の高い検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-338230
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
特開平3-123050
-
特開昭62-213112
-
処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-231918
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
試料検査装置の調整方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-107720
出願人:株式会社アドバンテスト
-
真空処理装置および処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-159577
出願人:株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社
-
処理装置の自動検査方法および自動復帰方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-206430
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
ウェハの昇降装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-091691
出願人:株式会社ニコン
-
検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-294516
出願人:ソニー株式会社
-
ウェーハケ-ス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-056267
出願人:三菱マテリアルシリコン株式会社
全件表示
審査官引用 (9件)
-
検査装置及び検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-175890
出願人:ソニー株式会社
-
特開平3-123050
-
クリーン度の高い検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-338230
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
試料検査装置の調整方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-107720
出願人:株式会社アドバンテスト
-
特開平3-123050
-
特開昭62-213112
-
真空処理装置および処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-159577
出願人:株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社
-
特開昭62-213112
-
処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-231918
出願人:東京エレクトロン株式会社
全件表示
前のページに戻る