特許
J-GLOBAL ID：200903047822891871
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 白江 克則
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-196167
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109441
出願日： 2004年07月02日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】複雑な位置決め装置及び複数のバランス・マスを必要とせずに、装置内での加速によりベース・フレームBFに加えられる反力によって引き起こされる振動をなくすリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】これは、基板テーブルWT及び装置内の他の部品の移動及び加速についての情報に基づき、(制御装置25による)フィードフォワード制御を用いてアクチュエータ26によってベース・フレームBFに補償力を加えることにより達成される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
放射線の投影ビームを提供するための放射線装置と、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造体と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターンの形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影装置と、
ベース・フレームと、
前記基板テーブルを前記ベース・フレームに対して移動させるための少なくとも1つのアクチュエータとを含むリソグラフィ投影装置において、
前記基板テーブルから反力を加えられるように構成されたバランス・マスであって、前記ベース・フレームの振振動数と等しくないサスペンション振動数で前記ベース・フレームに弾発的に連結されているバランス・マスを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 503F
, F16F15/02 A
, F16F15/02 C
3J048AD03
, 3J048AD07
, 3J048BF13
, 3J048DA01
, 3J048EA07
, 3J048EA13
, 5F046AA23
, 5F046AA28
, 5F046CC01
, 5F046DA30
