特許
J-GLOBAL ID：200903050913544091
照明装置における光の角分布を照明野位置の関数として変化させることによって、リソグラフィ装置における線幅のコントロールを改善するシステムおよび方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-118859
公開番号（公開出願番号）：特開2003-338459
出願日： 2003年04月23日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ装置における線幅をコントロールするシステムおよび方法を改善することである。【解決手段】 上記の課題は、照明源と照明光学モジュールとレチクルステージとウェーハステージと投影光学モジュールを有する本発明によるリソグラフィ装置および方法によって解決される。本発明の装置では照明源によって放射された電磁エネルギーを受け取る照明光学モジュールは部分コヒーレンス調整モジュールを有しており、部分コヒーレンス調整モジュールは、瞳面を有している一次元光学変換素子とアパーチャデバイスとを有しており、アパーチャデバイスは、軸に沿って前記一次元光学変換素子に入射する電磁エネルギーの角分布を変化させるのに用いられるアパーチャを有しており、アパーチャデバイスのアパーチャは一次元光学変換素子の瞳面に近接して配置されており、アパーチャデバイスのアパーチャの形状が調整されて、ウェーハステージに近接する像平面での電磁エネルギーの角分布をコントロールする。
請求項（抜粋）：
照明源と、該照明源によって放射された電磁エネルギーを受け取る照明光学モジュールと、レチクルステージと、ウェーハステージと、該ウェーハステージに近接した像平面を有する投影光学モジュールとを有しているリソグラフィ装置であって、前記照明光学モジュールは部分コヒーレンス調整モジュールを有しており、該部分コヒーレンス調整モジュールは瞳面を有している一次元光学変換素子と、アパーチャを有しているアパーチャデバイスとを有しており、該アパーチャは、軸に沿って前記一次元光学変換素子に入射する電磁エネルギーの角分布を変化させるのに用いられ、前記アパーチャデバイスのアパーチャは前記一次元光学変換素子の瞳面に近接して配置されており、前記レチクルステージは前記照明光学モジュールの近傍に配置されており、前記照明光学モジュールを出る電磁エネルギーは、前記レチクルステージによって保持されているレチクルの一部分を照明し、前記投影光学モジュールは、前記レチクルステージおよび前記ウェーハステージの近傍に配置されており、前記レチクルステージによって保持されているレチクルを通過する電磁エネルギーは前記投影光学モジュールに入射し、前記投影光学モジュールによって、前記ウェーハステージによって保持されているウェーハの感光性基板上に結像させられ、前記アパーチャデバイスのアパーチャの形状が調整されて、前記ウェーハステージに近接する像平面での電磁エネルギーの角分布がコントロールされる、ことを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 A
5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CB23
, 5F046DA11
出願人引用 (1件)
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米国特許出願第09/599, 383号、2000年6月22日出願、「Illumination System With Spatially Controllable Partial Coherence Compensating For Linewidth Variances In A Photolithography System」、McCullough
審査官引用 (11件)
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